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Suzhou Haichuan Rare Metal Products Co., Ltd.
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タンタルプレート 99.95% 純タンタルスプッターターゲット/タンタルプレート/シート/ディスク

製品詳細

起源の場所: 中国

ブランド名: HaiChuan

証明: ISO9001

モデル番号: 21

支払いと送料の条件

最小注文数量: 10kg

価格: $280-300/kg

パッケージの詳細: 木製の箱

受渡し時間: 10〜15日

支払条件: L/C,D/A,D/P,T/T,ウェスタンユニオン,マネーグラム

供給の能力: 月10トン

お問い合わせ
ハイライト:

99.95% 純粋なスプートリングターゲット

,

タンタルスプッター標的

,

タンタル プレートディスク

材料:
タンタル
形状:
習慣、版
起源の場所:
江苏,中国
適用する:
産業
サイズ:
カスタム
材料:
タンタル
形状:
習慣、版
起源の場所:
江苏,中国
適用する:
産業
サイズ:
カスタム
タンタルプレート 99.95% 純タンタルスプッターターゲット/タンタルプレート/シート/ディスク

タンタルプレート 99.95% 純タンタルスプッターターゲット/タンタルプレート/シート/ディスク

 

タンタルスプッターターゲットは,高純度のタンタルス金属で作られた円状の材料で,スプッターと呼ばれるプロセスで使用される.スプッターリングでは,ターゲット材料はプラズマイオンで爆撃され,標的表面から原子を切り離し,薄膜を作るための基板に堆積する.

 

 

製品名
分子式
純度
仕様
リニウム標的
4N-5N
飛行機の標的,回転の標的,チューブの標的などに合わせた
タンタル標的
3N-4N
ナイオビウム標的
Nb
3N-4N
バナジウム標的
V
3N-4N
タイタンの標的
ティ
2N5-4N
クロムの標的
C.C.
2N5-4N
銅の標的
クー
3N-5N
アルミニウム目標
アール
2N5-4N
コバルト標的
Co
3N5
ニッケル標的
3N-5N
ルテニウム標的
ルー
3N-4N
イリジウム標的
イー
3N-4N
ロジウム標的
Rh
4N
ビスムスの標的
バイ
3N-4N
パラジウム標的
Pd
3N-4N
シルバーターゲットは
アグ
4N-5N
ゴールド目標
アウ
4N-5N

 

タンタルプレート 99.95% 純タンタルスプッターターゲット/タンタルプレート/シート/ディスク 0

 

特徴:

高度純度:タンタルスプッターターゲットは,通常99.99%以上である高度純度タンタルス金属から作られ,沉積した薄膜の最高品質と一貫性を保証します.

サイズと形をカスタマイズできる:タンタルス噴射標的は,噴射プロセスの特定の要件を満たすために,丸い,長方形,環状を含む様々なサイズと形で利用できます.

熱電伝導性が良い:タンタルムスプッタリング標的は熱電伝導性が良いため,さまざまな用途に適しています.

高度な溶融点:タンタルは2996°Cの高度な溶融点を有し,高温の噴射用途に適しています.

 

適用:

半導体産業:半導体産業では,タンタルス・スプッティング・ターゲットは,集積回路,マイクロプロセッサ,他の電子部品.

光学産業: タンタルスプッターターゲットは,鏡,フィルター,その他の光学部品のためにタンタルスの薄膜を堆積するために光学産業で使用されます.

航空宇宙産業:タンタルス噴射標的は,宇宙船や衛星にコーティングを堆積して性能と耐久性を向上させるために航空宇宙産業で使用されます.

医療機器:タンタルの生物互換性や耐腐蝕性により,インプラントや診断センサーを含む医療機器の製造に使用されるタンタルのスプッターターゲットは,

エネルギー産業:タンタルス噴射標的は,エネルギー産業で,性能と耐久性を向上させるために,原子炉の部分や燃料電池にコーティングを堆積するために使用されます.